盡管制備方法看似成熟，但實(shí)際操作中仍有不少難題需要攻克：
成分配比的性：氧化錫的摻雜量通?？刂圃?-10%之間，過高會(huì)導(dǎo)致透明度下降，過低則影響導(dǎo)電性。如何在微觀尺度上實(shí)現(xiàn)均勻混合，是一個(gè)技術(shù)挑戰(zhàn)。
靶材密度：低密度靶材在濺射時(shí)容易產(chǎn)生顆粒飛濺，導(dǎo)致薄膜出現(xiàn)缺陷。提高密度需要優(yōu)化壓制和燒結(jié)條件，但這往往伴隨著成本的上升。
微觀結(jié)構(gòu)的控制：靶材內(nèi)部的晶粒大小和分布會(huì)影響濺射的穩(wěn)定性。晶粒過大可能導(dǎo)致濺射不均，而過小則可能降低靶材的機(jī)械強(qiáng)度。
熱應(yīng)力管理：在高溫?zé)Y(jié)過程中，靶材可能因熱膨脹不均而產(chǎn)生裂紋，影響成品率。
這些難點(diǎn)要求制造商在設(shè)備、工藝和質(zhì)量控制上投入大量精力。
區(qū)別對比
?成分差異：銦靶材為純金屬銦制成，而ITO靶材則是銦錫氧化物的復(fù)合物。
?用途不同：銦靶材主要用于需要高導(dǎo)電性和延展性的領(lǐng)域，如航空航天部件；ITO靶材則因其透明導(dǎo)電性廣泛應(yīng)用于光電顯示領(lǐng)域。
?性能特點(diǎn)：銦靶材更側(cè)重于導(dǎo)電性和機(jī)械強(qiáng)度，而ITO靶材則兼顧導(dǎo)電性和光學(xué)透明性。
銦回收具有重要的環(huán)保和經(jīng)濟(jì)效益。通過回收廢舊靶材中的銦，可以減少對新資源的開采，降低環(huán)境污染，實(shí)現(xiàn)資源的可持續(xù)利用。此外，回收銦還能穩(wěn)定市場供應(yīng)，降低生產(chǎn)成本，促進(jìn)相關(guān)產(chǎn)業(yè)的可持續(xù)發(fā)展。
閉環(huán)之困：損耗與機(jī)遇并存
ITO靶材在濺射鍍膜過程中利用率通常僅30%左右，大量含銦廢料（廢舊靶材、邊角料、鍍膜腔室廢料）隨之產(chǎn)生。過去，這些價(jià)值的廢料往往被簡單處理或堆積。建立從“廢靶材→再生銦→新靶材”的閉環(huán)體系，成為破解資源約束的黃金路徑。
